Applicatio Area: late in usu fornacis industriae, subsidia domestica, fornax industriae, metallurgia, machinatio, aircraft, autocineta, militaris et alia industria quae elementa calefaciendi et resistentia efficiunt.
Resistentes in tabula impressa wiring impressa erunt capacior ad sarcinas minuendas cum altiori constantia et electricae perficiendi meliore. Resistentis functionem integrans in laminas substratas PWB superficiei areae a componentibus discretis consumptis liberat, ut fabrica functionis aucta per collocationem partium magis activarum efficiat. Admixtiones Nickel-chromium altam resistentiam electricam habent, quae usui practica in variis applicationibus faciunt. Nickel et chromium cum Pii et aluminio iunguntur ad stabilitatem caliditatem emendandam et coefficientem resistendi scelerisque demittunt. Tenuis pellicula cinematographica resistiva secundum chromium nickel-angorum deposita continue in rotulos claui cupri deposita est ut materiam in applicationibus resistor infixam efficiat. Tenuis cinematographicus resistivus iacuit inter cuprum et laminas fartus, selective notatus ad resistores discretos formandos. Chemicae ad engraving communes sunt in processibus productionis PWB. Crassitudinem admixtorum coercendo, valores schedae resistentiae ab 25 ad 250 olim/sq. obtinentur. Haec charta duas materias nickel-chromium comparabit in methodologia sua etching, uniformitatem, tractationem potentiae, perficiendi thermas, adhaesionem et enigmata solutionis.
Nomen notam | 1Cr13Al4 | 0Cr25Al5 | 0Cr21Al6 | 0Cr23Al5 | 0Cr21Al4 | 0Cr21Al6Nb | 0Cr27Al7Mo2 | |
Praecipua chemica compositio% | Cr | 12.0-15.0 | 23.0-26.0 | 19.0-22.0 | 22.5-24.5 | 18.0-21.0 | 21.0-23.0 | 26.5-27.8 |
Al | 4.0-6.0 | 4.5-6.5 | 5.0-7.0 | 4.2-5.0 | 3.0-4.2 | 5.0-7.0 | 6.0-7.0 | |
RE | opportunum moles | opportunum moles | opportunum moles | opportunum moles | opportunum moles | opportunum moles | opportunum moles | |
Fe | Requiem | Requiem | Requiem | Requiem | Requiem | Requiem | Requiem | |
Nb0.5 | Mo1.8-2.2 | |||||||
Max.continuous ministerium temp.of * elementum (ºC) | 950 | 1250 | 1250 | 1250 | 1100 | 1350 | 1400 | |
Resistentia μΩ.m,20ºC | 1.25 | 1.42 | 1.42 | 1.35 | 1.23 | 1.45 | 1.53 | |
Densitas (g/cm3) | 7.4 | 7.10 | 7.16 | 7.25 | 7.35 | 7.10 | 7.10 | |
Scelerisque conductivity KJ/mhºC | 52.7 | 46.1 | 63.2 | 60.2 | 46.9 | 46.1 | 45.2 | |
Coefficiens of lineae expansionem α×10-6/ºC | 15.4 | 16.0 | 14.7 | 15.0 | 13.5 | 16.0 | 16.0 | |
Exustio punctumºC | 1450 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1510 | 1520 | |
distrahentes vires Mpa | 580-680 | 630-780 | 630-780 | 630-780 | 600-700 | 650-800 | 680-830 | |
Prolongatio at rumpatur% | >16 | >12 | >12 | >12 | >12 | >12 | >10 | |
Variatio area% | 65-75 | 60-75 | 65-75 | 65-75 | 65-75 | 65-75 | 65-75 | |
Iterare flexuram frequentia(F/R) | >5 | >5 | >5 | >5 | >5 | >5 | >5 | |
Duritia (HB) | 200-260 | 200-260 | 200-260 | 200-260 | 200-260 | 200-260 | 200-260 | |
Micrographic structure | Ferrite | Ferrite | Ferrite | Ferrite | Ferrite | Ferrite | Ferrite | |
Magnetic possessiones | Magnetic | Magnetic | Magnetic | Magnetic | Magnetic | Magnetic | Magnetic |